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再审申请人允新方企业股份有限公司与被申请人国家知识产权局专利复审委员会、广东高微晶科技有限公司发明专利权无效行政纠纷再审

来源:法学学习综合 作者:国平 人气: 发布时间:2016-03-06
摘要:中华人民共和国最高人民法院 行 政 裁 定 书 (2013)知行字第35号 再审申请人(一审原告、二审上诉人):允新方企业股份有限公司。 法定代表人:郑月招,该公司董事长。 委托代理人:叶华雄,该公司总经理。 委托代理人:李长青,北京市康达律师事务所律师

中华人民共和国最高人民法院

行 政 裁 定 书

(2013)知行字第35号

再审申请人(一审原告、二审上诉人):允新方企业股份有限公司

法定代表人:郑月招,该公司董事长。

委托代理人:叶华雄,该公司总经理。

委托代理人:李长青,北京市康达律师事务所律师。

申请人(一审被告、二审被上诉人):国家知识产权局专利复审委员会。

法定代表人:张茂于,该委员会副主任。

委托代理人:陈晓亮,该委员会审查员。

委托代理人:朱茜,该委员会审查员。

被申请人(原审第三人):广东高微晶科技有限公司。

法定代表人:吴启章,该公司总经理。

委托代理人:卜小军,北京市集佳(广州)律师事务所律师。

委托代理人:曹志霞,北京集佳知识产权代理有限公司专利代理人。

再审申请人允新方企业股份有限公司(以下简称允新方公司)因与被申请人国家知识产权局专利复审委员会(以下简称专利复审委员会)、广东高微晶科技有限公司(以下简称高微晶公司)发明专利权无效行政纠纷一案,不服北京市高级人民法院(2012)高行终字第146号行政判决,向本院申请再审。本院依法组成合议庭对本案进行了审查,现已审查终结。

允新方公司申请再审称:1.对比文件2的公开日晚于涉案专利申请日,不能作为评价涉案专利创造性的现有技术。2.涉案专利技术方案中的二氧化硅或者硅酸盐镀液需按照1:1:1的比例配置,且对打蜡机的压力、转速、抛磨时间等均有特殊参数要求,通过重复抛磨,将无机镀液中的分子、粒子同无机板材表面分子、粒子充分接触、吸附,使得涉案专利具有表面增亮、抗污、耐磨阻滑、抗菌等明显优于对比文件1和2技术方案的效果,故涉案专利具有创造性,请求撤销原判,再审本案。

被申请人专利复审委员会、高微晶公司提交意见称:允新方公司的再审申请理由无事实和法律依据,请求驳回。

本院认为:对比文件2的公开日为2002年1月9日,早于涉案专利的申请日2004年8月23日,故可以作为评价涉案专利创造性的现有技术,允新方公司该项再审申请理由不能成立。

根据涉案专利权利要求l的记载,其中的“再行抛磨”应解释为随后进行抛磨,而非重复抛磨。虽然说明书实施例中有重复抛磨的表述,但未明确排除一次抛磨的情况。此外,二氧化硅或者硅酸盐镀液需按照1:1:1的比例配置,以及打蜡机的压力、转速、抛磨时间等参数要求,均记载于说明书的最佳实施例,而权利要求1并未限定上述特征,而且本领域技术人员结合说明书也不能从权利要求书确定地、毫无疑义地得出上述结论。因此,允新方公司关于涉案专利基于上述特征而具有创造性的再审申请理由亦不能成立。

综上,允新方公司的再审申请不符合《中华人民共和国行政诉讼法》第六十三条第二款、《最高人民法院关于执行〈中华人民共和国行政诉讼法〉若干问题的解释》第七十二条规定的再审条件。依照《最高人民法院关于执行〈中华人民共和国行政诉讼法〉若干问题的解释》第七十四条的规定,裁定如下:

驳回允新方企业股份有限公司的再审申请。

审 判 长  王永昌

审 判 员  李 剑

代理审判员  吴 蓉

二〇一三年十一月五日

书 记 员  周睿隽

责任编辑:国平