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中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会与史天蕾等发明专利权无效行政纠纷一案 中华人民共和国 北京市高级人民法院 行政判决书 （2009）高行终字第437号 上诉人（原审被告）中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会，住所地中华人民共和国北京市海淀区北四环西路9号银谷大厦10—12层。 法定代表人廖涛，副主任。 委托代理人危峰，该委员会审查员。 委托代理人郭鹏鹏，该委员会审查员。 被上诉人（原审原告）史天蕾，女，汉族，1984年5月8日出生，住(略)。 委托代理人张会华，男，汉族，1962年5月13日出生，北京林达刘知识产权代理事务所专利代理人，住(略)。 委托代理人陈立航，男，汉族，1975年8月12日出生，北京林达刘知识产权代理事务所专利代理人，住(略)。 原审第三人金艺企业股份有限公司，住所地中华人民共和国台湾地区桃园县中坜市忠福里东园路40号。 法定代表人庄和枝，董事长。 委托代理人闫冬，男，汉族，1981年12月5日出生，北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司职员，住(略)。 委托代理人李林，女，汉族，1975年2月17日出生，北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司职员，住(略)。 上诉人中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会（简称专利复审委员会）因发明专利权无效行政纠纷一案，不服中华人民共和国北京市第一中级人民法院（简称北京市第一中级人民法院）（2008）一中行初字第479号行政判决，向本院提起上诉。本院2009年3月23日受理本案后，依法组成合议庭，于2009年5月7日公开开庭进行了审理。上诉人专利复审委员会的委托代理人危峰、郭鹏鹏，被上诉人史天蕾的委托代理人张会华、陈立航，原审第三人金艺企业股份有限公司（简称金艺公司）的委托代理人闫冬到庭参加了诉讼。本案现已审理终结。 北京市第一中级人民法院认定，涉案专利系金艺公司拥有的名称为“一种阴极遮蔽的强化电镀工艺”的发明专利（简称本专利）。针对本专利权, 史天蕾于2007年2月16日向专利复审委员会提出无效宣告请求。2007年11月29日，专利复审委员会做出第10695号无效宣告请求审查决定（简称第10695号决定），维持本专利全部有效。 北京市第一中级人民法院认为，本专利权利要求1—4符合《中华人民共和国专利法实施细则》（简称专利法实施细则）第二十条第一款的规定。本专利权利要求1没有明确记载两面遮蔽单元及安装过程不会导致其不符合《中华人民共和国专利法》（简称专利法）第二十六条第四款的规定。结合本专利说明书附图2可知，“镀件的周缘部”至少应包括镀件的平面部分的四周边缘部分；再根据本专利说明书附图1和附图7关于背景技术图示和本专利实施效果图示的对比来看，“镀件的周缘部”应指镀件的平面部分的四周边缘部分及侧面部分。将本专利与证据1进行比对，不同之处是，证据1的遮蔽单元的框与镀件侧边缘紧贴，镀件的侧边缘部分不裸露。镀件的侧边缘部分是否裸露，取决于不同的电镀要求。在不需要对镀件的侧边缘部分进行电镀时，可以根据证据1的教导得以实现；在需要对镀件的侧边缘部分进行电镀时，本领域技术人员根据证据1给出的技术启示，也容易想到本专利的仅采用遮蔽板遮蔽的技术方案。因此，本专利权利要求1相对于证据1不具有突出的实质性特点和显著的进步，即不具有创造性。在本专利权利要求1不具有创造性的基础上，专利复审委员会需要对其从属权利要求2—4的创造性重新做出评价。 北京市第一中级人民法院依照《中华人民共和国行政诉讼法》第五十四条第（二）项第1目之规定，判决：1、撤销专利复审委员会做出的第10695号决定。2、专利复审委员会重新做出无效宣告请求审查决定。 专利复审委员会不服原审判决，向本院提起上诉，请求撤销原审判决，维持第10695号决定。其理由为：1、“镀件的周缘部”为镀件的四周边缘部分，原审判决认为“至少应包括镀件的平面部分的四周边缘部分”的理解错误；2、本专利实际解决的技术问题是镀件四周边缘部分镀膜过量生长的技术问题，而证据1的技术方案所要解决的技术问题是金属平板1平面上的边缘镀膜过量生长的技术问题，两者解决技术问题不同，采取的技术手段也不相同，故本专利具有创造性。史天蕾、金艺公司服从原审判决。 经审理查明，金艺公司于2003年5月20日向中华人民共和国国家知识产权局申请了名称为“一种阴极遮蔽的强化电镀工艺”的发明专利（即本专利）。本专利于2006年9月6日被公告授权，专利号为第03136301.6号。本专利公告授权的权利要求为： “1、一种阴极遮蔽的强化电镀方法，其特征在于：其包含的步骤有： 将镀件进行无电解电镀程序，使镀件表面附着一层金属薄膜； 进行装设遮蔽单元程序，防渗透构造的该遮蔽单元形状结构与镀件表面的周缘部形状相互吻合，装设遮蔽单元后安置镀件于阴极架上，该阴极架上设有阴极座，以连接至镀件； 进行电镀程序，防渗透构造的该遮蔽单元，使电镀液离子无法直接附着于镀件周缘部，而由遮蔽单元与镀件间的空隙进入，即加设遮蔽单元的镀件周缘部的电镀距离较中间表面长，以使电镀液离子电镀于镀件的周缘部上的浓度减少，电镀于周缘部的厚度变薄，并可加长电镀时间使镀件中间表面的镀膜厚度增加，从而达到方便组装与强化的功效。 2、如权利要求1所述的阴极遮蔽的强化电镀方法，其中阴极架上设有安置孔，以放置镀件。 3、如权利要求2所述的阴极遮蔽的强化电镀方法，其中安置孔上装有扣接部。 4、权利要求1所述的阴极遮蔽的强化电镀方法，其中遮蔽单元为透明材质。” 针对本专利权, 史天蕾于2007年2月16日向专利复审委员会提出无效宣告请求，认为本专利权利要求1不符合专利法第二十六条第四款的规定，本专利权利要求1～4不符合专利法第二十二条第三款的规定，并提交了下述证据： 证据1：日本特开平1—129999号公开特许公报，复印件3页，中文译文4页，公开日为1989年5月23日。证据1公开了一种电镀厚度分布均匀化的方法（权利要求1）：通过在实施了电镀的金属平板表面的附近的适当位置上配置由电绝缘材料构成的遮蔽板，从而抑制镀层在局部过量生长，使电镀厚度分布均匀化，其特征在于，使由厚度为2～6mm的绝缘材料制成的框与金属平板的边缘紧贴地安装于金属平板的周围，并使该框的表面与金属平板的表面成为同一平面，在该金属及绝缘体的表面上的附近配置遮蔽板，从而在上述金属平板上实施电镀。在证据1说明书中的背景技术部分记载有如下内容：“作为使电镀厚度分布均匀的有效方法，以往公知有：通过在被镀面附近配置由电绝缘材料做成的遮蔽板，来抑制局部电流集中的方法。在用这种方法对方形平板的单侧表面进行电镀时，例如，图3(a)所示的遮蔽板配置，即，将与被镀面垂直的遮蔽板21紧贴在平板1的边缘地配置于平板1的周围，并且覆盖平板1的端部地配置与被镀面平行的遮蔽板22，将平板1作为阴极，在遮蔽板22的外侧放置阳极3而进行电镀。通过该方法，在平板1的除了端部以外的大部分被镀面上，可以使镀层4的厚度分布非常均匀。” 证据2：《金属表面工业全书5－プラスチックメッキ：金属メッキ技術（4）》，青谷薰编，桢书店，1972年6月25日第1版发行，封面、出版信息页及第12～13页，复印件3页，中文译文1页； 证据3：日本特开昭50—117643号公开特许公报，复印件4页，中文译文3页，公开日为1975年9月13日； 证据4：《実用めっきマニュァル》，友野理平著，オ一ム社，1979年8月10日第1版第4次印刷发行，封面、出版信息页及第60—63、538页，复印件4页，中文译文1页； 证据5：日本特开2002—54000号公开特许公报，复印件11页，中文译文1页，公开日为2002年2月19日； 证据6：《世界大百科事典1》，平凡社，1972年4月25日第1版发行，1979年印刷，封面、出版信息页及第127页，复印件3页，中文译文1页。 2007年3月15日，史天蕾提交了意见陈述书，补充了下述无效理由：认为本专利权利要求1～4不符合专利法实施细则第二十条第一款的规定，本专利权利要求1中记载的技术特征“装设遮蔽单元后安置镀件于阴极架上”，没有清楚地说明“装设遮蔽单元后”指的是将遮蔽单元装设在什么上后，权利要求1中其他技术特征中也没有对此进行解释，由此导致权利要求1所要求保护的范围不清楚；同理，从属权利要求2～4所要求保护的范围也不清楚。 2007年11月29日，专利复审委员会做出第10695号决定。专利复审委员会在该决定中认定： 1、关于专利法实施细则第二十条第一款 本专利权利要求1～4的保护范围是清楚的，符合专利法实施细则第二十条第一款的规定。 2、关于专利法第二十六条第四款 本专利权利要求1得到说明书的支持，符合专利法第二十六条第四款的规定。 3、关于专利法第二十二条第三款 本专利权利要求1的技术方案与证据1公开的技术方案（证据1的权利要求1）的相同之处在于，都是采用遮蔽单元使镀层均匀化的方法，不同之处主要在于遮蔽单元与镀件之间的配置关系不同，主要表现在：本专利权利要求1中遮蔽单元形状结构与镀件表面的周缘部形状相吻合，使电镀液离子无法直接附着于镀件周缘部，而由遮蔽单元与镀件间的空隙进入，由说明书可知，所述周缘部指的是镀件的四周边缘部分，也就是说，本专利权利要求1中既要求遮蔽单元的形状与镀件表面的边缘部分形状相吻合，又要求将所述遮蔽单元与镀件配置在一起并安置于阴极架上之后，镀件的四周边缘部分是裸露的，镀件与遮蔽单元不直接接触，镀件与遮蔽单元之间必须存有间距，即所述空隙；而证据1中由绝缘材料制成的框与金属平板的边缘紧贴地（即镀件的四周边缘部分不裸露）安装于金属平板的周围，并使该框的表面与金属平板的表面成为同一平面，在该金属及绝缘体的表面上的附近配置遮蔽板。 本专利说明书第1页中提到，在电镀过程中，因镀件的周缘部电场强度较镀件的中间表面大，电镀时造成镀件的周缘部所产生的镀膜厚度较中间表面厚，使中间表面的应力结构相对较为脆弱，且周缘部厚度较厚也造成镀件组装上的麻烦；通过在镀件上加设遮蔽单元后，使镀件周缘部的电镀距离较中间表面长，以使电镀液离子电镀于镀件的周缘部上的浓度减少，电镀于周缘部的厚度变薄，并可加长电镀时间使镀件中间表面的镀膜厚度增加，从而达到方便组装与强化的功效，即，本专利实际要解决的技术问题是镀件四周边缘部分镀膜过量生长的技术问题。 证据1中采用由绝缘材料制成的框20与金属平板1的边缘紧贴地安装于金属平板1的周围（参见图1、2），并使该框20的表面与金属平板1的表面成为同一平面，在该金属及绝缘体的表面上的附近配置遮蔽板21、22，通过将产生的不均匀的镀膜移植到框20上，实现了对金属平板1表面上镀膜的均匀化，即证据1的技术方案所要解决的技术问题是金属平板1平面上的边缘部分镀膜过量生长的技术问题，其并未教导采用遮蔽单元来解决镀件四周边缘部分镀膜过量生长的技术问题的启示。进一步，证据2也未公开遮蔽单元与镀件之间的配置关系；且证据3所公开的遮蔽单元与镀件之间的配置关系（即，遮蔽构件相对地设置于镀件突起部附近）也不同于本专利。 由此，当本领域技术人员面对本专利要解决的技术问题，即解决镀件四周边缘部分镀膜过量生长的技术问题时，不会从证据1中得到启示，改变遮蔽单元与镀件之间的配置关系，从而解决本专利要解决的上述技术问题；更不会受到启发，要将证据1与证据2、3相结合并改变遮蔽单元与镀件之间的配置关系。 因此，证据1～3均没有给出解决本专利技术问题的启示，证据1～3的组合并不足以破坏权利要求1的创造性，即，权利要求1相对于证据1～3的组合具备突出的实质性特点和显著的进步，符合专利法第二十二条第三款关于创造性的规定。 同理，在本专利权利要求1具备创造性的前提下，其从属权利要求2和3相对于证据1～3的组合也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。在本专利权利要求1具备创造性的前提下，从属权利要求4也具备创造性，符合专利法第二十二条第三款的规定。 据此，专利复审委员会做出第10695号决定，维持本专利有效。 上述事实，有第10695号决定、本专利授权公告文件、日本特开平1—129999号公开特许公报复印件及中文译文、当事人陈述等证据在案佐证。 本院认为，发明的创造性，是指同申请日以前已有的技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步。判断发明是否具有突出的实质性特点，其标准在于对本领域的技术人员来说，要求保护的发明相对于现有技术是否显而易见。 一、关于“镀件的周缘部”的认定。 本案中，“镀件的周缘部”在权利要求及说明书中均没有进行清楚地解释。在这种情况下，应当根据权利要求及说明书的记载，结合技术方案所解决的技术问题、所采用的技术方案以及所获得的技术效果，以本领域普通技术人员的角度进行解释。本专利权利要求1记载：“防渗透构造的该遮蔽单元形状结构与镀件表面的周缘部形状相互吻合”；“进行电镀程序，防渗透构造的该遮蔽单元，使电镀液离子无法直接附着于镀件周缘部，而由遮蔽单元与镀件间的空隙进入，即加设遮蔽单元的镀件周缘部的电镀距离较中间表面长，以使电镀液离子电镀于镀件的周缘部上的浓度减少，电镀于周缘部的厚度变薄，并可加长电镀时间使镀件中间表面的镀膜厚度增加，从而达到方便组装与强化的功效”。结合本专利说明书附图2可知，“镀件的周缘部”至少应包括镀件的平面部分的四周边缘部分；再根据本专利说明书附图1和附图7关于背景技术图示和本专利实施效果图示的对比来看，“镀件的周缘部”应指镀件的平面部分的四周边缘部分及侧面部分。因此，专利复审委员会关于“镀件的周缘部”仅指镀件的侧面部分的上诉主张没有事实依据，本院不予支持。 二、关于本专利权利要求1的创造性问题。 将本专利权利要求1与证据1进行比对，本专利权利要求1与证据1所要解决的技术问题相同，都是为了减少阴极镀件边缘部分的电荷堆积，从而使得镀件表面镀膜更为均匀。在具体技术方案中，本专利权利要求1与证据1均采用了遮蔽单元覆盖镀件平面表面的四周边缘部分，从而使镀层均匀化的方法。不同之处是，证据1的遮蔽单元的框与镀件侧边缘紧贴，而本专利权利要求1没有证据1的遮蔽单元的框结构，仅采用遮蔽板遮蔽镀件平面表面的四周边缘部分。但是，证据1已经披露了在解决阴极镀件边缘部分的电荷堆积这一技术问题时可以采用遮蔽板覆盖镀件平面表面的技术方案。在此基础上，在需要对镀件的侧边缘部分进行电镀时，本领域技术人员根据证据1给出的技术启示，也容易想到本专利的仅采用遮蔽板遮蔽的技术方案。因此，本专利权利要求1相对于证据1不具有突出的实质性特点和显著的进步，即不具有创造性。专利复审委员会关于本专利与证据1解决技术问题的不同进而本专利相对于证据1具备创造性的上诉主张于法无据，本院不予支持。 综上，原审判决认定事实清楚，适用法律正确。专利复审委员会的上诉主张不能成立。依照《中华人民共和国行政诉讼法》第六十一条第（一）项之规定，判决如下： 驳回上诉，维持原判。 一审案件受理费人民币一百元，由中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会负担（于本判决生效之日起七日内交纳）；二审案件受理费人民币一百元，由中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会负担（已交纳）。 本判决为终审判决。 审 判 长 刘 辉 代理审判员 岑宏宇 代理审判员 焦 彦 二 〇 〇 九 年 五 月 二十 日 书 记 员 陈 明 书 记 员 刘 悠 |
